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J-GLOBAL ID：200903004933083706

レジスト膜の形成方法および固体撮像素子の製造方法

Inventor： ▲浜▼田 一彦
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998176830
Publication number (International publication number)：2000005693
Application date： Jun. 24, 1998
Publication date： Jan. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 固体撮像素子のセンサ開口部を形成する際に用いるエッチングマスクとなるレジスト膜厚の不均一によりセンサ開口部の開口面積が不均一となり、感度むら、カラー撮像時の色のむらを引き起こしていた。【解決手段】 回転している基板11上にレジスト溶液12を滴下して広げ、基板11上にレジスト膜13を形成するレジスト膜の形成方法において、レジスト膜13が形成される基板11の周辺雰囲気の湿度を35%以上70%以下に保つことで、レジスト膜厚の均一化を図り、この方法を固体撮像素子の製造方法に用いることで、レジスト膜厚の不均一によるセンサ開口部の開口面積の不均一を解消する。

Claim (excerpt)：

回転している基板上にレジスト溶液を滴下して広げ、該基板上にレジスト膜を形成するレジスト膜の形成方法において、前記レジスト膜が形成される前記基板周辺の雰囲気の湿度を35%以上70%以下に保つことを特徴とするレジスト膜の形成方法。

IPC (6)：

B05D 1/40 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 27/14

FI (6)：

B05D 1/40 A ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 ,  G03F 7/38 501 ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 27/14 D

F-Term (32)：

2H025AB14 ,  2H025EA05 ,  2H096AA28 ,  2H096CA14 ,  4D075AC07 ,  4D075AC64 ,  4D075AC79 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB56Y ,  4D075BB91Y ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA45 ,  4F042AA06 ,  4F042AA10 ,  4F042BA20 ,  4F042BA25 ,  4F042EB09 ,  4F042EB13 ,  4F042EB17 ,  4F042EB29 ,  4M118AA06 ,  4M118AB01 ,  4M118BA13 ,  4M118CA03 ,  4M118CA40 ,  4M118EA01 ,  4M118FA06 ,  5F046JA02 ,  5F046JA27