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J-GLOBAL ID：200903004961328447

ガスレーザ

Inventor： 若林 理 ,  榎波 龍雄 ,  永井 伸治
Applicant, Patent owner： 株式会社小松製作所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999027048
Publication number (International publication number)：2000223757
Application date： Feb. 04, 1999
Publication date： Aug. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 レーザガスに対する高い耐圧を有し、レーザガスの圧力を高めることで強いパワーを得ることが可能なガスレーザを提供する。【解決手段】 レーザチャンバ2内に大気圧よりも高い圧力PLのレーザガスを封止し、そのレーザガスを励起してレーザ光11を発振させるガスレーザ1において、内部にレーザガスの圧力PLよりも低く、かつ大気圧よりも高い圧力PNの不活性ガスを充填した与圧チャンバ14を備え、この与圧チャンバ14の内部にレーザチャンバ2を収納するか、又はこの与圧チャンバ51によって、少なくともレーザ光11の出射部7B,9Bと、又はさらにレーザチャンバ2に装着されてレーザガスを励起する放電回路3とのレーザチャンバ2外側を覆っている。

Claim (excerpt)：

レーザチャンバ(2)内に大気圧よりも高い圧力(PL)のレーザガスを封止し、そのレーザガスを励起してレーザ光(11)を発振させるガスレーザ(1)において、内部にレーザガスの圧力(PL)よりも低く、かつ大気圧よりも高い圧力(PN)の不活性ガスを充填した与圧チャンバ(14)を備え、この与圧チャンバ(14)の内部にレーザチャンバ(2)を収納したことを特徴とするガスレーザ(1)。

F-Term (8)：

5F071AA04 ,  5F071AA06 ,  5F071DD08 ,  5F071EE01 ,  5F071EE04 ,  5F071GG05 ,  5F071JJ03 ,  5F071JJ05