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J-GLOBAL ID：200903004966243121

電子線照射処理方法

Inventor：
山口 真典

About 山口 真典


Applicant, Patent owner：
ウシオ電機株式会社

About ウシオ電機株式会社


Agent (1)： 七條 耕司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001303196
Publication number (International publication number)：2003107200
Application date： Sep. 28, 2001
Publication date： Apr. 09, 2003
Summary：
【要約】【課題】 被処理物の加熱時に多量の汚染物質が発生するようなことがあっても、処理室内、特に電子線管の出射窓部の汚染物質による汚染を防止することのできる電子線照射処理方法を提供すること。【解決手段】 電子線管1から放射される電子線を加熱される被処理物6に照射して処理する電子線照射処理方法において、被処理物6が加熱される以前または直後から、被処理物6への加熱および/または電子線照射によって生成される汚染物質による前記電子線管1の電子線出射窓12への汚染を防止するための汚染防止ガス流8を電子線出射窓2に生成させ、その後被処理物6が加熱され電子線照射されて処理されるようにしたことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
電子線管から放射される電子線を加熱される被処理物に照射して処理する電子線照射処理方法において、被処理物が加熱される以前または直後から、被処理物への加熱および/または電子線照射によって生成される汚染物質による前記電子線管の電子線出射窓への汚染を防止するための汚染防止ガス流を前記電子線出射窓に生成させ、その後前記被処理物が加熱され電子線照射されて処理されるようにしたことを特徴とする電子線照射処理方法。
IPC (5)：
G21K 5/04 ,  B05D 3/06 101 ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/00 ,  H01L 21/027
FI (5)：
G21K 5/04 E ,  B05D 3/06 101 Z ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/00 B ,  H01L 21/30 567
F-Term (13)：
2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  4D075BB47X ,  4D075BB47Z ,  4D075BB52X ,  4D075BB52Z ,  4D075DC22 ,  4D075EA05 ,  4D075EA33 ,  4D075EA35 ,  4D075EA45 ,  5F046KA01 ,  5F046LA18
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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