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J-GLOBAL ID:200903004966243121
電子線照射処理方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
七條 耕司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001303196
Publication number (International publication number):2003107200
Application date: Sep. 28, 2001
Publication date: Apr. 09, 2003
Summary:
【要約】【課題】 被処理物の加熱時に多量の汚染物質が発生するようなことがあっても、処理室内、特に電子線管の出射窓部の汚染物質による汚染を防止することのできる電子線照射処理方法を提供すること。【解決手段】 電子線管1から放射される電子線を加熱される被処理物6に照射して処理する電子線照射処理方法において、被処理物6が加熱される以前または直後から、被処理物6への加熱および/または電子線照射によって生成される汚染物質による前記電子線管1の電子線出射窓12への汚染を防止するための汚染防止ガス流8を電子線出射窓2に生成させ、その後被処理物6が加熱され電子線照射されて処理されるようにしたことを特徴とする。
Claim 1:
電子線管から放射される電子線を加熱される被処理物に照射して処理する電子線照射処理方法において、被処理物が加熱される以前または直後から、被処理物への加熱および/または電子線照射によって生成される汚染物質による前記電子線管の電子線出射窓への汚染を防止するための汚染防止ガス流を前記電子線出射窓に生成させ、その後前記被処理物が加熱され電子線照射されて処理されるようにしたことを特徴とする電子線照射処理方法。
IPC (5):
G21K 5/04
, B05D 3/06 101
, G03F 7/20 504
, G21K 5/00
, H01L 21/027
FI (5):
G21K 5/04 E
, B05D 3/06 101 Z
, G03F 7/20 504
, G21K 5/00 B
, H01L 21/30 567
F-Term (13):
2H097AA03
, 2H097CA16
, 4D075BB47X
, 4D075BB47Z
, 4D075BB52X
, 4D075BB52Z
, 4D075DC22
, 4D075EA05
, 4D075EA33
, 4D075EA35
, 4D075EA45
, 5F046KA01
, 5F046LA18
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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電子線量の測定方法および電子線照射処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-291545
Applicant:ウシオ電機株式会社
-
特開平4-273430
-
レジスト処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-077159
Applicant:ウシオ電機株式会社
-
荷電粒子ビーム露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-009987
Applicant:株式会社アドバンテスト
-
荷電粒子ビーム露光方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-062421
Applicant:富士通株式会社, 株式会社アドバンテスト
-
荷電ビーム描画用鏡筒のクリーニング方法及び荷電ビーム描画用鏡筒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-342308
Applicant:東芝機械株式会社
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Cited by examiner (6)
-
電子線量の測定方法および電子線照射処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-291545
Applicant:ウシオ電機株式会社
-
特開平4-273430
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レジスト処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-077159
Applicant:ウシオ電機株式会社
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荷電粒子ビーム露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-009987
Applicant:株式会社アドバンテスト
-
荷電粒子ビーム露光方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-062421
Applicant:富士通株式会社, 株式会社アドバンテスト
-
荷電ビーム描画用鏡筒のクリーニング方法及び荷電ビーム描画用鏡筒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-342308
Applicant:東芝機械株式会社
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