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J-GLOBAL ID：200903004966246104

屈折率分布型光導波路の製造方法

Inventor： 大森 康弘 ,  磯野 秀樹 ,  服部 和枝 ,  海藤 義彦
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 伊東 忠彦 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992055547
Publication number (International publication number)：1993257022
Application date： Mar. 13, 1992
Publication date： Oct. 08, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は屈折率分布型光導波路の製造方法に関し、コアの寸法及び屈折率の高精度化を実現することを目的とする。【構成】 コア形成工程11を、コア中心パターン形成工程11-1と、被覆コア部形成工程11-2とより構成する。コア中心パターン形成工程11-1を、複数のコア層を積重して形成する工程11-1-1と、最上位置のコア層をエッチングする工程11-1-2とより構成する。被覆コア部形成工程11-2を、覆いコア層を堆積して形成する工程11-2-1と覆いコア層をエッチングする工程11-2-2とより構成する。

Claim (excerpt)：

基板上に、クラッドの屈折率と同じ屈折率の基礎クラッド層(20)を形成する基礎クラッド層形成工程(10)と、該基礎クラッド層形成工程により形成された上記基礎クラッド層上に、屈折率分布型コアを形成する屈折率分布型コア形成工程(11)と、該コア形成工程により形成された該屈折率分布型コアを覆う覆いクラッド層(20a)を形成する覆いクラッド層形成工程(12)とよりなり、上記コア形成工程(11)は、コア層を堆積形成しこれをエッチングし、パターニングしてコア中心パターンをうるコア中心パターン形成工程(11-1)と、コア層を堆積形成しこれをエッチングして上記コア中心パターンを被覆し、上記コア中心パターンの屈折率より順次低い屈折率の被覆コア部を形成する被覆コア部形成工程(11-2)とよりなる構成としたことを特徴とする屈折率分布型光導波路の製造方法。