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J-GLOBAL ID：200903004974277590

フォトマスク及びそれを用いて製造したカラーフィルタ基板

Inventor：
松政 健司

About 松政 健司

, 
安原 寿二

About 安原 寿二


Applicant, Patent owner：
凸版印刷株式会社

About 凸版印刷株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008147886
Publication number (International publication number)：2009294433
Application date： Jun. 05, 2008
Publication date： Dec. 17, 2009
Summary：
【課題】ハーフトーン型フォトマスクを用いプロキシミティー露光方式によりフォトスペーサと線幅の異なる部分を有する配向制御用突起とをカラーフィルタ基板上に一括形成にて形成する場合、前記配向制御用突起部分に付加される別の突起であって線幅が11μm以下の突起部位が溶出してしまい、ほとんど解像できないという問題があった。【解決手段】ハーフトーンフォトマスクのフォトスペーサに対応する部位が光透過性について非透過、配向制御用突起に対応する部位が光透過性について半透過であって、前記半透過の部位が全透過の部位を含むことを特徴とするハーフトーンフォトマスクであり、このフォトマスクを用いて露光・現像して製造したフォトスペーサ及び配向制御用突起を備えたカラーフィルタ基板である。【選択図】図1
Claim 1：
プロキシミティー露光方式を用いるフォトリソグラフィー法により、フォトスペーサ及び異なる線幅を有する配向制御用突起をカラーフィルタ基板上に一括形成にて形成する際に用いるハーフトーンフォトマスクにおいて、前記ハーフトーンフォトマスクのフォトスペーサに対応する部位が光透過性について非透過、配向制御用突起に対応する部位が光透過性について半透過であって、前記半透過の部位が全透過の部位を含むことを特徴とするハーフトーンフォトマスク。
IPC (4)：
G02F 1/133 ,  G02F 1/136 ,  G03F 1/08 ,  G02B 5/20
FI (6)：
G02F1/1337 ,  G02F1/1339 500 ,  G02F1/1368 ,  G03F1/08 L ,  G02F1/1335 505 ,  G02B5/20 101
F-Term (52)：
2H048BB02 ,  2H048BB08 ,  2H048BB12 ,  2H048BB42 ,  2H090HA11 ,  2H090HA15 ,  2H090HC12 ,  2H090HC13 ,  2H090HD14 ,  2H090JA03 ,  2H090JB02 ,  2H090KA07 ,  2H090KA18 ,  2H090LA02 ,  2H090LA15 ,  2H090MA01 ,  2H090MA02 ,  2H090MB14 ,  2H092MA14 ,  2H092NA27 ,  2H092PA08 ,  2H092QA09 ,  2H095BA03 ,  2H095BB36 ,  2H095BC05 ,  2H189DA08 ,  2H189EA06X ,  2H189FA16 ,  2H189FA19 ,  2H189HA14 ,  2H189HA16 ,  2H189JA10 ,  2H189JA12 ,  2H189JA14 ,  2H189LA10 ,  2H189LA14 ,  2H191FA02Y ,  2H191FA16Y ,  2H191FB04 ,  2H191FB22 ,  2H191FC10 ,  2H191FC36 ,  2H191FD04 ,  2H191GA08 ,  2H191GA11 ,  2H191GA19 ,  2H191HA11 ,  2H191HA13 ,  2H191HA15 ,  2H191LA13 ,  2H191LA25 ,  2H191LA40
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (10)
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Cited by examiner (6)
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