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J-GLOBAL ID：200903004975281885

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor： 神田 博美 ,  佐藤 健一郎
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004235796
Publication number (International publication number)：2006023692
Application date： Aug. 13, 2004
Publication date： Jan. 26, 2006
Summary：

【課題】経時保存後にパターン形成に用いた場合でも、現像欠陥の発生が著しく抑制され、且つ液浸液追随性に優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。【解決手段】(A)分子鎖の少なくとも一方の末端に、少なくとも一つのハロゲン原子を有した特定の基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)分子鎖の少なくとも一方の末端に下記構造式(1)で表される基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (11)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• レジスト用(共)重合体およびレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-392856   Applicant：三菱レイヨン株式会社