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J-GLOBAL ID：200903004998667675

トンネル内の特定ガス濃度測定装置およびトンネル内の排気方法

Inventor：
濱野 靖徳

About 濱野 靖徳

, 
中島 勇人

About 中島 勇人


Applicant, Patent owner：
石川島播磨重工業株式会社

About 石川島播磨重工業株式会社


Agent (2)： 志賀 正武 ,  渡邊 隆
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003315726
Publication number (International publication number)：2005083874
Application date： Sep. 08, 2003
Publication date： Mar. 31, 2005
Summary：
【課題】 特定ガスの迅速な濃度測定が可能であり、また所定区間における平均的な濃度測定が可能な、トンネル内の特定ガス濃度測定装置を提供する。【解決手段】 特定ガスによる吸収波長近傍のレーザ光をトンネル1内で照射するレーザ照射手段30と、照射されたレーザ光をトンネル1内で受光するレーザ受光手段40とを有し、レーザ吸収法によりトンネル1内における特定ガスの濃度を算出する。なお、算出した特定ガス濃度に基づいて、トンネル1内の排気手段の運転を制御する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
少なくとも特定ガスによる吸収波長のレーザ光を発振可能な半導体レーザと、前記半導体レーザにより発振される前記レーザ光を、前記特定ガスによる吸収波長を中心に波長変調するレーザ制御部と、前記半導体レーザにより発振されたレーザ光をトンネル内で照射するレーザ照射手段と、前記レーザ照射手段から照射された前記レーザ光を前記トンネル内で受光するレーザ受光手段と、 前記レーザ受光手段により受光されたレーザ光の強度に相当する信号から、前記半導体レーザにより発振されたレーザ光の変調周波数の基本波成分および2倍波成分を位相敏感検波して、前記トンネル内における前記特定ガスの濃度を算出するデータ処理部と、を有することを特徴とするトンネル内の特定ガス濃度測定装置。
IPC (2)：
G01N21/35 ,  E21F1/00
FI (2)：
G01N21/35 Z ,  E21F1/00 A
F-Term (14)：
2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059CC04 ,  2G059EE01 ,  2G059EE11 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059GG09 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ17 ,  2G059KK01 ,  2G059MM14 ,  2G059MM20
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (20)
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