Pat

J-GLOBAL ID：200903005001568652

熱処理装置

Inventor： 加賀爪 哲 ,  戸澤 孝 ,  白岩 裕嗣 ,  鈴木 健生
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン東北株式会社 ,  株式会社安川電機
Agent (1)： 畝本 正一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992076295
Publication number (International publication number)：1993243170
Application date： Feb. 26, 1992
Publication date： Sep. 21, 1993
Summary：

【要約】【目的】 ロードロック室内におけるエレベータの容積を低減させるとともに、被加熱処理体に対する塵埃の影響を抑制し、ひいては処理時間の短縮化を図る。【構成】 被加熱処理体(ウエハ2)を加熱処理するプロセスチューブ(4)に連結したロードロック室(8)を備えた熱処理装置であって、前記プロセスチューブで処理すべき前記被加熱処理体を載置するとともに前記プロセスチューブの開口部を閉塞するキャップ(26)を備えた可動支持体(48)と、前記ロードロック室の排気部(排気孔44)側の内壁面に隣接して立設されて前記可動支持体を摺動可能に支持する垂直ベース(46)と、この垂直ベースの背面側に設置されて前記可動支持体を上下方向に摺動させる駆動機構(50)とを備えたものである。

Claim (excerpt)：

被加熱処理体を加熱処理すべきプロセスチューブに連結されて前記被加熱処理体を収容して真空に保持し、又は任意のガス雰囲気に保持するロードロック室を備えた熱処理装置であって、前記プロセスチューブで処理すべき前記被加熱処理体を載置するとともに前記プロセスチューブの開口部を閉塞するキャップを備えた可動支持体と、前記ロードロック室の排気部側の内壁面に隣接して立設されて前記可動支持体を摺動可能に支持する垂直ベースと、この垂直ベースの背面側に設置されて前記可動支持体を上下方向に摺動させる駆動機構と、を備えたことを特徴とする熱処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/22 ,  H01L 21/31

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平4-154118