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J-GLOBAL ID：200903005026246978

真空ポンプ

Inventor：
ヴォルフガング・エーバール

About ヴォルフガング・エーバール


Applicant, Patent owner：
プファイファー・ヴァキューム・ゲーエムベーハー

About プファイファー・ヴァキューム・ゲーエムベーハー


Agent (1)： 社本 一夫 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002030826
Publication number (International publication number)：2002310092
Application date： Feb. 07, 2002
Publication date： Oct. 23, 2002
Summary：
【要約】【課題】 大気圧から約10-4mbarの高真空に至るまでの全圧力範囲を包含する真空ポンプであって、ポンプが1つの部分からなり、コンパクトな構造を有し、低コストであり、且つ占有床面積の小さい前記真空ポンプを提供する。【解決手段】 本発明は2系統ガス摩擦ポンプ(6)および(7)と、その下流側の1台のポンプ(8)とからなる真空ポンプを記載する。2系統ガス摩擦ポンプのガス流れはポンプの内部で結合要素(26)により集められ、その下流側のポンプ(8)により大気圧まで圧縮される。ガス摩擦ポンプが2系統のホルベック・ポンプとして形成され、およびその下流側のポンプがサイド・チャネル・ポンプとして形成されていることが有利である。ポンプのコンパクト構造は、さらに、サイド・チャネル・ポンプのステータ要素(15)が分割されていないディスクからなることにより補足される。
Claim (excerpt)：
2台の単段または多段ガス摩擦ポンプ(6)および(7)と、その下流側の1台の多段ポンプ(8)とからなる真空ポンプにおいて、両方のガス摩擦ポンプが流れ方向に並列配置され、これにより、吸い込まれたガス流れが吸込領域(22)において2つの分流に分割され、これらの各分流が付属のガス摩擦ポンプにより吸込領域(22)からそれぞれの吐出領域(23)ないし(24)に供給され、およびそれに続いて両方のガス流れが結合要素(26)を介して1つの吐出室(25)に集められることと、および前記吐出室が、それの下流側に設けられたポンプ(8)の吸込室(27)と、導通路(28)を介して結合され、これにより、前記下流側ポンプがガスをさらに圧縮することと、を特徴とする真空ポンプ。
IPC (2)：
F04D 19/04 ,  F04D 29/54
FI (6)：
F04D 19/04 G ,  F04D 19/04 C ,  F04D 29/54 B ,  F04D 29/54 C ,  F04D 29/54 D ,  F04D 29/54 F
F-Term (33)：
3H031DA01 ,  3H031DA05 ,  3H031DA07 ,  3H031DA09 ,  3H031EA00 ,  3H031FA01 ,  3H031FA03 ,  3H031FA36 ,  3H034AA01 ,  3H034AA02 ,  3H034AA12 ,  3H034BB01 ,  3H034BB04 ,  3H034BB08 ,  3H034BB09 ,  3H034BB11 ,  3H034CC01 ,  3H034CC03 ,  3H034CC07 ,  3H034DD01 ,  3H034DD02 ,  3H034DD05 ,  3H034DD12 ,  3H034DD13 ,  3H034DD20 ,  3H034DD22 ,  3H034DD26 ,  3H034DD27 ,  3H034DD28 ,  3H034DD30 ,  3H034EE05 ,  3H034EE12 ,  3H034EE18
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
  • 特開平3-033492
  • 特開昭60-116895
  • 真空ポンプ
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-194357   Applicant：プファイファー・ヴァキューム・ゲーエムベーハー
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