Pat

J-GLOBAL ID：200903005051919634

粒度分布測定装置

Inventor： 島岡 治夫
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 西岡 義明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995069787
Publication number (International publication number)：1995260669
Application date： Sep. 29, 1989
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】 分散飛翔状態の粒子群に光を照射したときに生ずる光散乱現象を利用し、光散乱法に基づいて粒度分布を選定することにより、分布が広範囲に亘る粒子群の粒度分布を選定できるようにする。【構成】 粒子群による回折/散乱光の内、前方所定角度以下の回折/散乱光はレンズ4で集光してアレイセンサ5によってその強度分布を測定するとともに、粒子群による散乱光の内、所定角度を越える前方散乱光、側方散乱光及び後方散乱光がアレイセンサ5とは別個に設けた光センサ6〜8によって測定する。この場合、アレイセンサ5及び光センサ6〜8の出力のデジタル変換データを共通のA-D変換器11を介して演算部13に採り込み、統一的な散乱光強度分布ベクトルの成分として用い、そのデータから散乱光強度分布ベクトルを粒度分布ベクトルに変換するための予め設定された変換係数行列を用いた演算により粒子群の粒度分布を一挙に算出する。

Claim (excerpt)：

分散飛翔状態の粒子群に平行光束を照射することによって得られる、粒子群による回折/散乱光の強度分布を測定することによって、粒子群の粒度分布を測定する装置において、粒子群による回折/散乱光の内、前方所定角度以下の回折/散乱光を集光するレンズと、そのレンズによって集光された回折/散乱光の強度分布を検出するアレイセンサと、粒子群による散乱光の内、上記角度を越える前方散乱光、側方散乱光および後方散乱光のいずれかを入射してその強度を検出する1個もしくは複数の光センサと、上記アレイセンサおよび上記光センサの出力をそれぞれの出力を共通のA-D変換器を介して採り込んで、その各データを統一的な散乱光強度分布ベクトルの成分として用い、そのデータから、散乱光強度分布ベクトルを粒度分布ベクトルに変換するためのあらかじめ設定されている変換係数行列を用いた演算により、粒子群の粒度分布を一挙に算出する演算手段を備えたことを特徴とする粒度分布測定装置。

IPC (2)：

G01N 15/02 ,  G01N 15/14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特公平6-043950
  
• 特願平1-256161
  Application number：特願平1-256161