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J-GLOBAL ID：200903005057636049

フォトレジスト用樹脂とその製造方法、及びフォトレジスト組成物

Inventor：
新井 隆

About 新井 隆

, 
当房 和久

About 当房 和久

, 
合田 晋

About 合田 晋


Applicant, Patent owner：
ダイセル化学工業株式会社

About ダイセル化学工業株式会社


Agent (1)： 後藤 幸久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000012838
Publication number (International publication number)：2001201856
Application date： Jan. 21, 2000
Publication date： Jul. 27, 2001
Summary：
【要約】【課題】 均質性に優れ、解像度の高い微細パターンを得ることのできるフォトレジスト用樹脂を得る。【解決手段】 本発明のフォトレジスト用樹脂の製造方法は、重合時の重合速度が相対的に速い単量体Aと相対的に遅い単量体Bとの共重合体からなるフォトレジスト用樹脂の製造方法であって、前記共重合体における前記単量体Aと単量体Bとの構成比(A/B;モル比)をαとしたとき、反応系内における単量体Aと単量体Bの存在比k(A/B;モル比)がα未満となるように単量体を系内に供給して重合させる前工程と、残余の単量体を系内に供給して重合させる後工程とを含む。単量体Bとして、脂環式炭化水素骨格を有するビニル単量体等を使用できる。
Claim (excerpt)：
重合時の重合速度が相対的に速い単量体Aと相対的に遅い単量体Bとの共重合体からなるフォトレジスト用樹脂の製造方法であって、前記共重合体における前記単量体Aと単量体Bとの構成比(A/B;モル比)をαとしたとき、反応系内における単量体Aと単量体Bの存在比k(A/B;モル比)がα未満となるように単量体を系内に供給して重合させる前工程と、残余の単量体を系内に供給して重合させる後工程とを含むフォトレジスト用樹脂の製造方法。
IPC (4)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 2/00 ,  C08F 20/18 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 2/00 A ,  C08F 20/18 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (46)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  4J011AA05 ,  4J011BB01 ,  4J011BB07 ,  4J011HA04 ,  4J011PB30 ,  4J011PB40 ,  4J011UA01 ,  4J011UA02 ,  4J011UA04 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J100AB02P ,  4J100AB03P ,  4J100AB04P ,  4J100AL03P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA16Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100JA38 ,  4J100JA46
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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