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J-GLOBAL ID：200903005059297667
X線マスク構造体
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山本 亮一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991219207
Publication number (International publication number)：1993041347
Application date： Aug. 05, 1991
Publication date： Feb. 19, 1993
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 本発明は反りや歪みがなく、高精度なリソグラフィ-が可能になるX線リソグラフィ-用マスク構造体の提供を目的とするものである。【構成】 本発明のX線マスク構造体は、X線透過膜保持枠、X線透過膜、X線吸収体および保持枠補強剤とからなるX線マスク構造体において、シリコン単結晶製のX線透過膜保持枠とシリコン単結晶の補強体とを、酸化シリコン膜を介して接合してなることを特徴とするものである。
Claim (excerpt)：
X線透過膜保持枠とX線透過膜、X線吸収体および保持枠を補強する補強体とからなるX線マスク構造体において、シリコン単結晶製のX線透過膜保持枠とシリコン単結晶製の補強体とを、酸化シリコン膜を介して接合することを特徴とするX線マスク構造体。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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