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J-GLOBAL ID：200903005094688385

イオン発生装置

Inventor： 麻生 雄二
Applicant, Patent owner： 東陶機器株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997368176
Publication number (International publication number)：1999191478
Application date： Dec. 26, 1997
Publication date： Jul. 13, 1999
Summary：

【要約】【課題】 イオンを安定に供給でき、吹き出し口に触れた場合でも人体に影響をしないイオン発生装置を提供する。【解決手段】 ABS製の本体ケ-ス1内に、針電極2を放電電極と、高圧電源3からなるマイナスイオン発生器を設置し、交流電源8に接続した。マイナスイオンの吹き出し部の吹き出し口4のみを半導体とし、ア-ス7により接地した。半導体として、帯電防止剤を練り込んだ導電性ABS材を使用した。吹き出し口4を導体にした場合は、高抵抗を介してア-ス7に接地した方がよい。

Claim (excerpt)：

放電電極に高電圧を印加することによりコロナ放電を生じさせ、生成されたイオンが、吹き出し口から放出されるイオン発生装置において、前記吹き出し口は、導体からなり、前記吹き出し口に蓄積される電荷を徐々に排出させる経路を設けたことを特徴とするイオン発生装置。

IPC (3)：

H01T 23/00 ,  A61L 9/22 ,  H01T 19/04

FI (3)：

H01T 23/00 ,  A61L 9/22 ,  H01T 19/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 熱可塑性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-230001   Applicant：住友化学工業株式会社
• 特開昭60-240100