Pat
J-GLOBAL ID:200903005098416231

水質制御装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 吉武 賢次 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001251184
Publication number (International publication number):2003053375
Application date: Aug. 22, 2001
Publication date: Feb. 25, 2003
Summary:
【要約】【課題】 被処理水中の水質成分濃度が急激に変化した場合でも、適切な水質成分除去処理を高効率かつ低コストに行うことができる水質制御装置を提供する。【解決手段】 水質制御装置1は、被処理水中の水質成分を除去する水質成分処理機構6を有する曝気槽3を備え、曝気槽3には第1沈殿池2が接続されている。曝気槽3には第2沈殿池4が接続され、水質成分処理機構6には制御装置5が接続されている。第1沈殿池2には酸化還元電位計7が設けられており、酸化還元電位計7は曝気槽3より前段に設置される。曝気槽3は嫌気部3a、無酸素部3b、好気部3cから構成され、水質成分処理機構6はブロア11と、好気部3c内に設置された散気管15と、ブロア11と散気管15とを連結する空気管14と、電動弁12と、空気流量計13とを有する。制御装置5は、流入水質予測演算部23と、風量目標値演算部21と、風量制御部22とを有している。
Claim (excerpt):
被処理水中の特定の水質成分を除去する水質成分処理機構を有する曝気槽と、曝気槽より前段に設置され、曝気槽への被処理水の酸化あるいは還元の程度を計測する酸化還元電位計と、酸化還元電位計に接続され、酸化還元電位計の計測値と水質成分との関係式に基づいて被処理水中の水質成分濃度を予測する流入水質予測演算部と、流入水質予測演算部に接続され、流入水質予測演算部で予測された水質成分濃度に基づいて水質成分処理機構を制御する制御部と、を備えた水質制御装置。
IPC (7):
C02F 3/30 ZAB ,  C02F 3/30 ,  C02F 3/12 ,  C02F 3/34 101 ,  C02F 3/34 ,  C02F 11/00 ,  C02F 11/14
FI (7):
C02F 3/30 ZAB A ,  C02F 3/30 C ,  C02F 3/12 H ,  C02F 3/34 101 A ,  C02F 3/34 101 C ,  C02F 11/00 C ,  C02F 11/14 B
F-Term (29):
4D028AB00 ,  4D028AC01 ,  4D028AC09 ,  4D028BC01 ,  4D028BC14 ,  4D028BC18 ,  4D028BD08 ,  4D028BD16 ,  4D028BE08 ,  4D028CA01 ,  4D028CA09 ,  4D028CC01 ,  4D028CD01 ,  4D028CE01 ,  4D040BB05 ,  4D040BB07 ,  4D040BB32 ,  4D040BB57 ,  4D040BB65 ,  4D040BB72 ,  4D040BB92 ,  4D059AA04 ,  4D059AA05 ,  4D059BE55 ,  4D059CA28 ,  4D059DA16 ,  4D059DA35 ,  4D059EB02 ,  4D059EB11

Return to Previous Page