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J-GLOBAL ID：200903005115195597

アクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路

Inventor： 林田 茂 ,  鍛冶 誠 ,  奈良 茂男
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993183575
Publication number (International publication number)：1995036068
Application date： Jul. 26, 1993
Publication date： Feb. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】 耐熱性に優れ、かつ光スイッチングや変調等の光信号処理に優れたアクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路を提供する。【構成】 フッ素化ポリアミド酸及び非線形光学材料を含むアクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路。

Claim (excerpt)：

フッ素化ポリアミド酸及び非線形光学材料を含むアクティブ光導波路用組成物。

IPC (3)：

G02F 1/35 504 ,  C08G 73/10 NTF ,  G02B 6/13