Pat

J-GLOBAL ID：200903005138282292

化学吸着単分子累積膜及びその製造方法

Inventor： 小川 一文
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 池内 寛幸 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991277574
Publication number (International publication number)：1993086353
Application date： Oct. 24, 1991
Publication date： Apr. 06, 1993
Summary：

【要約】【目的】 活性水素基を有するか付与した基材表面に、内層膜と単分子層の表層膜とからなる累積膜をともに共有結合によって形成することにより、撥水撥油、防汚性などに優れた極薄の膜を均一に形成する。【構成】 水酸基、イミノ基など活性水素基を有するか付与した基材表面1に、まずSiCl4 のようなクロロシラン化合物を反応させ、非水溶媒で洗浄した後水分と反応させて水酸基を多く形成しシロキサン系内層膜4とする。次に内層膜の水酸基に、フロロアルキル基を有するクロロシラン系吸着剤を反応させ、非水溶媒で洗浄した後水分と反応させて単分子膜からなる表層膜5を形成し、全体として累積膜とする。

Claim (excerpt)：

基材の表面に、シロキサン系薄膜が基材表面と共有結合によって形成されており、その表面に化学吸着単分子膜が前記シロキサン系薄膜と共有結合して形成されていることを特徴とする化学吸着単分子累積膜。

IPC (5)：

C09K 3/00 ,  B01J 19/00 ,  B05D 7/24 302 ,  B32B 9/00 ,  C23C 18/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭64-158225
  
• 特開昭60-040254
  
• 特開平2-232232