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J-GLOBAL ID：200903005144709532

光学的位置較正システム

Inventor： リチャード・エフ・ランダウ ,  エドワード・ディー・シュルゼイズ
Applicant, Patent owner： バリアン・アソシエイツ・インコーポレイテッド
Agent (1)： 竹内 澄夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996151826
Publication number (International publication number)：1997115981
Application date： May. 24, 1996
Publication date： May. 02, 1997
Summary：

【要約】【課題】真空を解除することなく、またシステムの中断を最小にしてマルチステーションウェーハ処理システムの移送アームを正確に較正するシステムおよび方法を提供する。【解決手段】密閉可能な半導体処理システム内でウェーハアームを較正する方法は、密閉可能な半導体処理システム内の識別可能な位置に移送アームの位置を、システムを密閉している一方で、検出する工程と、密閉可能な半導体処理システムを密閉する一方で、アームの前記位置を調節する工程と、密閉可能な半導体処理システム内で半導体ウェーハを処理する工程とを含む。

Claim (excerpt)：

密閉可能な半導体処理システム内でウェーハアームを較正する方法であって、前記密閉可能な半導体処理システム内の識別可能な位置で前記移送アームの位置を、前記システムを密閉している間に、検出する工程と、前記密閉可能な半導体処理システムを密閉する一方で、前記アームの前記位置を調節する工程と、前記密閉可能な半導体処理システム内で半導体ウェーハを処理する工程と、を含んで成る方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 基板処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-120075   Applicant：日電アネルバ株式会社
• 特開昭63-150916
  
• ウエハ異物検査装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-109809   Applicant：日立電子エンジニアリング株式会社