Pat

J-GLOBAL ID：200903005190480310

転写装置、転写体の製造方法、及び洗浄方法

Inventor： 堀川 孝俊
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (2)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004291352
Publication number (International publication number)：2006107595
Application date： Oct. 04, 2004
Publication date： Apr. 20, 2006
Summary：

【課題】 転写装置において、転写用原盤等の洗浄対象を装置から取り外すことなく、簡易にかつ高レベルに洗浄することを可能とする。【解決手段】 転写装置1は、転写用原盤10の表面と被転写体の被転写面とを密着させ、転写用原盤10の表面上の情報を被転写面に転写するものであり、冷却粒状化したガスを含む洗浄用ガスを衝突させ、洗浄対象である、転写用原盤10、被転写体、及びこれらを保持する保持具30のうち少なくとも一つを洗浄する洗浄手段40と、洗浄対象を加熱ガス及び/又は光にて加熱する加熱手段50とを備える。洗浄用ガスと、加熱ガス及び/又は光とが、洗浄対象の異なる領域に向けて供給されると共に、洗浄手段40及び加熱手段50に対して、洗浄対象を相対的に移動させる相対移動手段をさらに備えていることが好ましい。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

転写用原盤の表面と被転写体の被転写面とを密着させ、前記転写用原盤の表面上の情報を前記被転写面に転写する転写装置において、 冷却粒状化したガスを含む洗浄用ガスを衝突させ、洗浄対象である、前記転写用原盤、前記被転写体、及び該転写用原盤と該被転写体とを保持する保持具のうち少なくとも一つを洗浄する洗浄手段と、 前記洗浄対象を、加熱ガス及び/又は光にて加熱する加熱手段とを備えたことを特徴とする転写装置。

IPC (1)：

G11B 5/86

FI (2)：

G11B5/86 C ,  G11B5/86 101B

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 磁気転写用マスター担体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-066122   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 特公昭60-3555号公報