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J-GLOBAL ID:200903005196480355

排ガス処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 田辺 恵基
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993171038
Publication number (International publication number):1995003464
Application date: Jun. 17, 1993
Publication date: Jan. 06, 1995
Summary:
【要約】【目的】本発明は、排ガス処理装置を構成する排ガス除去剤の寿命を従来に比して一段と延長することを目的とする。【構成】排ガス中に含まれる未反応ガスを反応ガスと反応させて粉体化させた後、排ガスを固体除去フイルタに導くようにしたことにより、固体除去フイルタを通つた排ガス中から未反応ガスをほとんど取り除くことができる。これにより未反応ガスが直接ガス除去フイルタに流入して劣化させるおそれを抑制することができ、ガス除去フイルタの寿命を一段と延長することができる。
Claim (excerpt):
反応室から排出された排ガスを固体除去フイルタに導いて粉体物を除去した後、当該排ガスをガス除去フイルタに導いて特定のガス成分を吸着して取り除く排ガス処理装置において、上記排ガスを上記固体除去フイルタに供給する前に反応ガスと反応させ、当該排ガス中に含まれる未反応ガス成分を粉体化させることを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (2):
C23C 16/44 ,  H01L 21/285
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開平1-288317
  • 特開平3-241824
  • 特開平1-288317
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