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J-GLOBAL ID：200903005229518930

紙の製造方法

Inventor：
境 健自

About 境 健自

, 
小高衣美子

About 小高衣美子


Applicant, Patent owner：
ハイモ株式会社

About ハイモ株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001348993
Publication number (International publication number)：2003155689
Application date： Nov. 14, 2001
Publication date： May. 30, 2003
Summary：
【要約】【課題】 古紙や機械パルプの配合比率が増加しても、高い歩留率を維持できる抄紙方法を開発することである。そのため特定の両性高分子物質を用いて、抄紙系のクローズド化の進展などにより抄紙工程で係る種々のせん断力に強く、しかも抄紙後の紙の地合崩れをおこさない適度な強度を有するフロックを生成する歩留向上剤を開発し、それを用いた歩留向上方法を提供する。【解決手段】 特定のカチオン性単量体から選択される二種を5〜95モル%、アニオン性単量体5〜50モル%及び非イオン性単量体0〜90からなる両性水溶性高分子を、抄紙前の製紙原料中に添加し処理した後、抄紙することによって達成できる。また、アニオン性水溶性高分子と併用することによって達成できる。
Claim 1：
下記一般式(1)〜(3)で表されるカチオン性単量体から選択される二種を5〜95モル%、下記一般式(4)で表されるアニオン性単量体5〜50モル%及び非イオン性単量体0〜90モル%からなる両性水溶性高分子を歩留向上及び/又は濾水性向上を目的として、抄紙前の製紙原料中に添加することを特徴とする紙の製造方法。【化1】一般式(1)【化2】一般式(2)【化3】一般式(3)R1、R2、R3は炭素数1〜3のアルキルあるいはアルコキシル基、R4、R5、R6は炭素数1〜3のアルキルあるいはアルコキシル基、R7は水素又はメチル基、R8、R9は炭素数1〜3のアルキルあるいはアルコキシル基、R10はベンジル基であり、Aは酸素原子またはNH、Bは炭素数2〜4のアルキレン基またはアルコキシレン基を表わす、X1、X2、X3は陰イオンをそれぞれ表わす。【化4】一般式(4)R11は水素、メチル基またはカルボキシメチル基、AはSO3、C6H4SO3、CONHC(CH3)2CH2SO3、C6H4COOあるいはCOO、R12は水素またはCOOY2、Y1あるいはY2は水素または陽イオンをそれぞれ表す。
IPC (9)：
D21H 17/45 ,  C08F 2/32 ,  C08F212/14 ,  C08F220/06 ,  C08F220/34 ,  C08F220/58 ,  C08F220/60 ,  C08F228/02 ,  D21H 21/10
FI (9)：
D21H 17/45 ,  C08F 2/32 ,  C08F212/14 ,  C08F220/06 ,  C08F220/34 ,  C08F220/58 ,  C08F220/60 ,  C08F228/02 ,  D21H 21/10
F-Term (42)：
4J011KA08 ,  4J011KA15 ,  4J011KB08 ,  4J011KB29 ,  4J011LA04 ,  4J011LA06 ,  4J011LB09 ,  4J011LB10 ,  4J100AB07Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100AJ08Q ,  4J100AL08P ,  4J100AM15R ,  4J100AM21Q ,  4J100AP01Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA32P ,  4J100BA56Q ,  4J100BC43P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100EA06 ,  4J100EA09 ,  4J100FA20 ,  4J100FA30 ,  4J100JA13 ,  4L055AA03 ,  4L055AC06 ,  4L055AC09 ,  4L055AG12 ,  4L055AG48 ,  4L055AG71 ,  4L055AG73 ,  4L055AH09 ,  4L055AH16 ,  4L055AH18 ,  4L055BD10 ,  4L055EA30 ,  4L055EA32 ,  4L055FA10 ,  4L055GA35
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (4)
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