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J-GLOBAL ID：200903005229762190

重ね合わせ露光の最適化方法及び露光装置

Inventor： 染矢 篤志
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994022197
Publication number (International publication number)：1995211627
Application date： Jan. 21, 1994
Publication date： Aug. 11, 1995
Summary：

【要約】【目的】 異なる露光装置を用いた重ね合わせ露光において目的像高内で充分な重ね合わせ精度を得ることができる方法を提供する。【構成】 異なる露光装置を用いて重ね合わせ露光を行う際に、先ず、第1の工程では、各露光装置のレンズの収差曲線を近似関数f(x),g(x)に近似する。第2の工程では、近似関数f(x),g(x)に対して露光条件の補正係数M1,M2 となる変数m1,m2 を含む項を加えた補正近似関数F(x,m1 ),G(x,m2 )をそれぞれに形成し、さらに補正関数E(x,m1 ,m2 )=G(x,m2 )-F(x,m1 )を形成する。第3の工程では、目的像高の範囲内で上記補正関数の絶対値の最大値が最小となるように各補正係数M1,M2 を求める。そして、第4の工程で上記各補正係数M1,M2 に基づいて各露光装置による露光条件を補正する。

Claim (excerpt)：

異なる露光装置を用いて重ね合わせ露光を行う際に、露光条件を補正することによって当該露光装置間の重ね合わせ誤差を最小化する露光の最適化方法であって、前記各露光装置のレンズの収差曲線を各近似関数に近似する第1の工程と、前記各近似関数に対して露光条件の補正係数となる変数を含む項を加えた補正近似関数をそれぞれに形成し、当該各補正近似関数の差からなる補正関数を形成する第2の工程と、目的像高の範囲内で前記補正関数の絶対値の最大値が最小になるように前記各補正係数を求める第3の工程と、前記各補正係数に基づいて各露光装置の露光条件を補正する第4の工程とからなることを特徴とする重ね合わせ露光の最適化方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521