Pat
J-GLOBAL ID：200903005229845451

ウエハ載置台及びウエハ裏面の処理方法

Inventor：
園田 明弘

About 園田 明弘


Applicant, Patent owner：
沖電気工業株式会社

About 沖電気工業株式会社


Agent (1)： 船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997181996
Publication number (International publication number)：1999026562
Application date： Jul. 08, 1997
Publication date： Jan. 29, 1999
Summary：
【要約】【課題】 ウエハとウエハ載置台との間に異物が挟まると、ウエハ表面に局所的な圧力が加わって表面を平坦に保つことができない。【解決手段】 基台21と、基台21における上面22側に設けられた吸着溝23とを有し、吸着溝23に吸引管24を接続してなる真空吸着式のウエハ載置台2において、基台21の上面22側における吸着溝23間に溝25を設け、溝25内に低粘性樹脂26を充填した。これによって、ウエハWの裏面に付着した異物が低粘性樹脂26または吸着溝23内に吸収され、ウエハWに圧力が加わらないようにした。
Claim (excerpt)：
基台と、当該基台における上面側に設けられかつ吸引管に接続された吸着溝とを有するウエハ載置台において、前記基台の上面側における前記吸着溝間に設けられた溝と、前記溝内に充填された低粘性樹脂と、を備えたことを特徴とするウエハ載置台。
IPC (3)：
H01L 21/68 ,  B23Q 3/08 ,  H01L 21/027
FI (4)：
H01L 21/68 P ,  B23Q 3/08 A ,  H01L 21/30 503 B ,  H01L 21/30 515 F
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • ウエハチャック
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-136375   Applicant：ソニー株式会社
  • 特開平3-095951
  • 電子楽器
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-017025   Applicant：ローランド株式会社
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM