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J-GLOBAL ID：200903005246774207

基板処理装置

Inventor： 田中 昭典 ,  押田 勝次 ,  ▲高▼木 康祐
Applicant, Patent owner： 株式会社日立国際電気
Agent (1)： 梶原 辰也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003410106
Publication number (International publication number)：2005175053
Application date： Dec. 09, 2003
Publication date： Jun. 30, 2005
Summary：

【課題】破損や汚染、ウオータマークの発生を防止しウエハの自然酸化膜を除去する。【解決手段】酸化膜除去装置10は、ウエハ1を保持具20によって保持して自然酸化膜を除去する除去室12と、保持具20に保持されたウエハ1にエッチング液およびリンス液を供給する薬液ノズル24と、保持具20に保持されたウエハ1にスチームを吹き付けるスチームノズル27と、ウエハ1に吹き付けられたスチームの大部分を排気する排気ダクト32とを備えている。スピン乾燥に比べてウエハ1を低速回転で乾燥できるので、ウエハの破損や汚染およびウオータマークの発生を防止しつつウエハ1基板の自然酸化膜を除去できる。【選択図】図1

Claim 1：

基板を保持具によって保持して処理する処理室と、前記保持具に保持された前記基板に乾燥用ガスを吹き付けるノズルと、前記基板に吹き付けられた前記乾燥用ガスの大部分を排気する排気ダクトとを備えていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3)：

H01L21/304 ,  H01L21/027 ,  H01L21/306

FI (3)：

H01L21/304 651L ,  H01L21/306 R ,  H01L21/30 572B

F-Term (8)：

5F043AA31 ,  5F043BB22 ,  5F043DD13 ,  5F043DD30 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10 ,  5F046MA05 ,  5F046MA10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特公平7-101675号公報