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J-GLOBAL ID：200903005256244079
光記録装置及びその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
森岡 正樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997031221
Publication number (International publication number)：1998213795
Application date： Jan. 30, 1997
Publication date： Aug. 11, 1998
Summary：
【要約】【課題】本発明は、高速の書き込みスピードと高い書き込み密度の双方を同時に実現する光記録装置及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】マイクロレンズ41が形成された透明基板(図11(a))のマイクロレンズ41の反対側に、ネガ型レジスト44を1μm程度塗布する(図11(b))。次に、先に形成したマイクロレンズ41側からレジスト膜を裏面露光し(図11(c))、露光されなかったレジスト膜を除去する(図11(d))。次に、クロム(Cr)などの金属膜45を蒸着法あるいはスパッタリング法により0.1〜1μm程度着膜する(図11(e))。その後、剥離液にマイクロレンズアレイ4を浸漬し、金属膜の一部をリフトオフ法により除去する(図11(f))ことにより遮光部42が形成され、所望のマイクロレンズアレイ4が得られる。
Claim (excerpt)：
光導電体層と光変調層とを含んで構成された空間光変調素子に対して、光による書き込み手段により情報を書き込んで、書き込まれた前記情報を読み出し光により出力する光記録装置において、前記書き込み手段は、書き込むべき情報を表示する表示素子と、前記表示素子から前記空間光変調素子に至る光路上に位置し、前記空間光変調素子上で複数画素ごとに分離されるように、前記表示素子の複数の画素のうち隣接する所定数の画素からの出射光をそれぞれの口径内に含む複数の集光光学素子を隣接配置した集光手段と、前記集光光学素子の光軸にほぼ平行に入射した光の前記集光手段からの出射光を透過させる複数の光透過領域と当該出射光以外の光を遮光する遮光領域とを有する遮光手段とを有する光学素子と、前記光学素子により前記空間光変調素子上で分離された画像を補間するように、前記空間光変調素子上の書き込み領域を変更して前記表示素子で表示される画像を書き込む書き込み領域変更手段とを備え、複数のフィールドで1フレームを構成する時分割書き込みを行うこと特徴とする光記録装置。
IPC (4)：
G02F 1/1335
, G02F 1/13 505
, G02F 1/135
, G11B 7/135
G02F 1/1335
, G02F 1/13 505
, G02F 1/135
, G11B 7/135 A
