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J-GLOBAL ID：200903005281961613

アルミナ膜研磨用組成物およびそれを用いる化学機械研磨方法

Inventor：
堀 哲二

About 堀 哲二


Applicant, Patent owner：
TDK株式会社

About TDK株式会社


Agent (2)： 星宮 勝美 ,  渡邊 和浩
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007136414
Publication number (International publication number)：2008290169
Application date： May. 23, 2007
Publication date： Dec. 04, 2008
Summary：
【課題】従来のCMP工程と比較して工程数の増加を伴わずに、アルミナ膜の段差を極力少ない研磨量で効率良く解消する。【解決手段】凹凸面を有するアルミナ膜を備えた研磨対象物を化学機械研磨して凹凸面を平坦化させるために用いられるアルミナ膜研磨用組成物は、アルミナ砥粒と、アルミナ膜およびアルミナ砥粒の表面に保護膜を形成する保護膜形成剤と、を含有する。保護膜形成剤は、分子中に1個以上のOH基またはCOOH基を有するモノマーを重合させて得られた重量平均分子量が100以上1,000,000以下の範囲内の水溶性ポリマーである。【選択図】図5
Claim (excerpt)：
凹凸面を有するアルミナ膜を備えた研磨対象物を化学機械研磨して前記凹凸面を平坦化するために用いられるアルミナ膜研磨用組成物であって、 アルミナ砥粒と、 前記アルミナ膜および前記アルミナ砥粒の表面に保護膜を形成する保護膜形成剤と、 を含有し、 前記保護膜形成剤が、分子中に1個以上のOH基またはCOOH基を有するモノマーを重合させて得られた重量平均分子量が100以上1,000,000以下の範囲内の水溶性ポリマーであることを特徴とするアルミナ膜研磨用組成物。
IPC (3)：
B24B 37/00 ,  C09K 3/14 ,  G11B 5/31
FI (4)：
B24B37/00 H ,  C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z ,  G11B5/31 M
F-Term (7)：
3C058AA07 ,  3C058CB01 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA16 ,  5D033DA21 ,  5D033DA31
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (5)
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