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J-GLOBAL ID：200903005294311278
アルミニウムターゲットおよびその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992319697
Publication number (International publication number)：1994158307
Application date： Nov. 30, 1992
Publication date： Jun. 07, 1994
Summary：
【要約】【目的】Siおよび/またはCuの含有量が0.5〜3.0重量%のような高い範囲においても、マグネトロンスパッタリング装置で用いることができ、ウエハー上の膜厚分布の平坦化に適したアルミニウムターゲットとその製造方法を提供する。【構成】高純度アルミニウムにSiおよび/またはCuの元素を合計で0.5〜3.0重量%添加した合金の、結晶面のX線強度比(100)/(110)が1.4〜2であることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
純度99.9%以上のアルミニウムに、Siおよび/またはCuの元素を合計で0.5〜3.0重量%添加した合金の、結晶面のX線強度比(100)/(110)が1.4〜2であることを特徴とするアルミニウムターゲット。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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