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J-GLOBAL ID：200903005295882740

電子ビーム・アブレーション装置

Inventor： 西川 幸男 ,  水口 信一 ,  吉田 善一 ,  石川 順三
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 池内 寛幸 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993231404
Publication number (International publication number)：1995090555
Application date： Sep. 17, 1993
Publication date： Apr. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 高純度で組成ずれがなく、良質な薄膜を効率的かつ大面積に連続的に形成する電子ビーム・アブレーション装置を提供する。【構成】 ターゲット10の表面に電子ビーム12をパルス状に照射し、照射部周辺に余分なエネルギーを与えることなく、ターゲット10の表面近傍の粒子13だけを高エネルギー粒子として断熱的に噴出させ、この噴出した物質を基板11上に堆積させる。さらに、回転する円柱状ターゲット27に電子ビームをパルス状に照射しつつ、基板28をターゲット27の回転中心に対して平行に連続的に移動させ、基板28上に大面積に効率良く連続的に薄膜30を形成する。

Claim (excerpt)：

真空槽と、前記真空槽内の所定の位置に設けられたターゲットと、前記真空槽に設けられ前記ターゲット表面に電子をパルス状に照射する電子ビーム発生源と、前記ターゲットに対向するように設けられ電子ビーム照射によりターゲットから噴出した物質を堆積させる基板とを具備する電子ビーム・アブレーション装置。