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J-GLOBAL ID：200903005308388910

X線照射装置

Inventor： 藤崎 久雄 ,  杉崎 克己 ,  永田 浩
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 永井 冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993315147
Publication number (International publication number)：1995167997
Application date： Dec. 15, 1993
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 被照射物体に対して高強度のX線を均一に照射することを可能にする。【構成】 放物線Prの一部がなす線分Lsを、この放物線Prの焦点fを通りかつ放物線Prの主軸Xに対して線分Ls側に傾斜した軸線Aの周りに回転して得られる回転曲面の内周面Fiを反射面とする集光鏡を設け、焦点fの位置から集光鏡の内周面へ向けてX線Lxを放射する。

Claim (excerpt)：

放物線の一部がなす線分を、前記放物線の焦点を通りかつこの放物線の主軸に対して前記線分側に傾斜した軸線の周りに回転して得られる回転曲面の内周面を反射面とする集光鏡を備え、前記焦点の位置から前記集光鏡の内周面へ向けてX線を放射するX線照射装置。