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J-GLOBAL ID：200903005311776794

ウェーハ処理方法及び装置

Inventor： 相場 武 ,  石山 弘
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997346499
Publication number (International publication number)：1999176796
Application date： Dec. 16, 1997
Publication date： Jul. 02, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ヒータを不要とし、高圧が加わる部分をなくして、従来よりも安全とし、安全のための装備や設備を少なくすることのできるウェーハの処理方法及び装置を提供すること。【解決手段】 搬送管21内を流れる搬送ガスの流速によって生じる負圧により、搬送管21に噴霧管25を介して連通している容器29に収容されているIPA溶液28は、搬送管21に霧状で供給され、この霧状となったIPAの液体は、搬送管21中の搬送ガスの流れにより、処理室Jへと供給され、処理室J内に配設されたウェーハWの乾燥を行う。

Claim (excerpt)：

所定以上の流速で、搬送管に搬送ガスを流し、前記搬送ガスの流速によって前記搬送管内に生じる負圧により、液体を霧状として、前記搬送ガスに混合させ、前記霧状となった前記液体と前記搬送ガスとの混合流体を、前記搬送ガスの流れにより処理室に供給した後、前記処理室において、前記混合流体を用いて処理を行うようにしたことを特徴とするウェーハ処理方法。

IPC (2)：

H01L 21/304 651 ,  F26B 21/12

FI (2)：

H01L 21/304 651 H ,  F26B 21/12