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J-GLOBAL ID：200903005324076392

有機圧電焦電体膜の形成方法

Inventor： 高橋 善和 ,  下山 直之 ,  青木 恒
Applicant, Patent owner： 株式会社アルバック ,  ポリマテック株式会社
Agent (3)： 清水 善廣 ,  阿部 伸一 ,  辻田 幸史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005043029
Publication number (International publication number)：2006225565
Application date： Feb. 18, 2005
Publication date： Aug. 31, 2006
Summary：

【課題】 基材上に形成されたポリ尿素膜のポーリング処理を、基材を損傷することなく、また、ポリ尿素膜に絶縁破壊を生じさせずに確実に行うことができる有機圧電焦電体膜の形成方法を提供する。【解決手段】 ジアミンと、ジイソシアナートとを蒸着重合することにより、基材上にポリ尿素膜を形成し、前記ポリ尿素膜を、80°C〜130°Cの温度で加熱するとともに磁場を印加して、前記ポリ尿素膜にポーリング処理を施すことを特徴とする。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

ジアミンと、ジイソシアナートとを蒸着重合することにより、基材上にポリ尿素膜を形成し、前記ポリ尿素膜を、80°C〜130°Cの温度で加熱するとともに磁場を印加して、前記ポリ尿素膜にポーリング処理を施すことを特徴とする有機圧電焦電体膜の形成方法。

IPC (4)：

C08J 7/00 ,  C08G 18/32 ,  H01L 41/26 ,  H01L 41/193

FI (4)：

C08J7/00 D ,  C08G18/32 B ,  H01L41/22 C ,  H01L41/18 102

F-Term (24)：

4F073AA18 ,  4F073BA21 ,  4F073BA28 ,  4F073BB01 ,  4F073GA01 ,  4F073GA07 ,  4J034BA02 ,  4J034CA15 ,  4J034CB03 ,  4J034CC02 ,  4J034CC07 ,  4J034CC12 ,  4J034CC22 ,  4J034CC61 ,  4J034CC67 ,  4J034HA01 ,  4J034HA07 ,  4J034HC12 ,  4J034HC64 ,  4J034HC67 ,  4J034HC71 ,  4J034JA06 ,  4J034LA22 ,  4J034LA26

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特許第2782528号公報
  
• 特許第2782528号
  
• 特開昭62-246940
  

Cited by examiner (2)

• 特許第2782528号
  
• 特開昭62-246940