Pat

J-GLOBAL ID：200903005358365695

フォトレジストの現像方法

Inventor： 滝 益志
Applicant, Patent owner： 日鉄セミコンダクター株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996056539
Publication number (International publication number)：1997246166
Application date： Mar. 13, 1996
Publication date： Sep. 19, 1997
Summary：

【要約】【課題】 フォトレジスト表面における現像液の濡れ性を改善して、欠陥のないレジストパターンを形成し得るフォトレジストの現像方法を提供する。【解決手段】 露光終了後で現像実施前のフォトレジスト2に対してプラズマ処理を施すことによってフォトレジスト2の表面を若干粗して親水性に変化させる。次に、このフォトレジスト2上に現像液を供給し、現像液層3を形成してフォトレジスト2の現像処理を行う。

Claim (excerpt)：

露光終了後で現像実施前のフォトレジストに対して酸素プラズマ処理を施すことによって前記フォトレジストの表面を粗して親水性とするプラズマ処理工程と、酸素プラズマ処理が施された前記フォトレジスト上に現像液を供給し現像液層を形成することによってフォトレジストの現像を行う現像工程を有することを特徴とするフォトレジストの現像方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

FI (2)：

H01L 21/30 569 F ,  G03F 7/30 501