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J-GLOBAL ID：200903005372564269

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 佐藤 健一郎 ,  河邉 保雅
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002109500
Publication number (International publication number)：2003302763
Application date： Apr. 11, 2002
Publication date： Oct. 24, 2003
Summary：

【要約】【課題】 遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決されたポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、具体的には、エッジラフネス、耐エッチング性及び露光のラチチュードの優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 (A)光酸発生剤、(B)脂環型酸分解性基を有する繰り返し単位を含有する樹脂、及び(C)炭素数7〜15の脂肪族環状炭化水素基とアルコール性水酸基とを有するアルコール化合物、を含有するポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)光酸発生剤、(B)脂環型酸分解性基を有する繰り返し単位を含有する樹脂、及び(C)炭素数7〜15の脂肪族環状炭化水素基とアルコール性水酸基とを有するアルコール化合物を含有するポジ型レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/10 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/10 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (37)：

2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA11Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BC08R ,  4J100BC08S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09S ,  4J100BC12P ,  4J100BC12R ,  4J100BC12S ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100HA08 ,  4J100JA38