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J-GLOBAL ID：200903005377692311
有機薄膜形成用基板及びその製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992122244
Publication number (International publication number)：1994272054
Application date： May. 14, 1992
Publication date： Sep. 27, 1994
Summary：
【要約】【構成】 基板をオゾン水中に浸漬し、基板表面に酸化膜を形成することによって有機薄膜形成用基板を製造する。このときオゾン水の濃度は8重量%以上とすることが好ましい。【効果】 導電性,剥離性,機械強度に優れた有機薄膜形成用基板が短時間に低コストで製造できる。
Claim (excerpt)：
基板表面にオゾン水中に浸漬することによって形成された酸化膜を有してなる有機薄膜形成用基板。
IPC (3)：
C23C 22/68
, B32B 15/04
, H05K 3/44
