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J-GLOBAL ID：200903005381667143

プラズマ処理装置の放電開始機構

Inventor： 砂田 剛 ,  藤本 秀樹 ,  高田 俊成
Applicant, Patent owner： 日本真空技術株式会社
Agent (1)： 飯阪 泰雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994052733
Publication number (International publication number)：1995240298
Application date： Feb. 24, 1994
Publication date： Sep. 12, 1995
Summary：

【要約】[目的] マイクロ波プラズマ処理装置において、プラズマ生成後にマイクロ波の反射波が小さくなるように調整された状態においても、マイクロ波の印加による放電を確実ならしめる放電開始機構を提供すること。[構成] 放電管20の放電部近傍の外壁に交流高電圧トリガ50の出力端子51を取り付け、マイクロ波の投入印加の直後に放電管20の外壁に交流高電圧を印加する。

Claim (excerpt)：

少なくとも、真空処理室と、マイクロ波を伝送する導波管と、該導波管を貫通して一端は前記真空処理室に挿入され、他端はプラズマ生成用ガスの供給口とされた放電管とからなるプラズマ処理装置において、前記放電管の放電部近傍の外壁に高電圧発生装置の出力端子を近接させて配設し、マイクロ波の印加時に放電が確実に開始されるようにしたことを特徴とするプラズマ処理装置の放電開始機構。

IPC (2)：

H05H 1/46 ,  C23F 1/08 101

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭59-226027
  
• 特開昭59-226027