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J-GLOBAL ID:200903005395706699
エレクトロンシャワー装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992221129
Publication number (International publication number):1994068838
Application date: Aug. 20, 1992
Publication date: Mar. 11, 1994
Summary:
【要約】【目的】精密な制御をすることなくウェーハ7に形成された素子を破壊しないでイオンを中和できる。【構成】フィラメントの熱電子を引出し電極2より引き出し、引出し電極2によって担加速された熱電子を減速する減速電極3で減速し、この減速された電子を磁石4で軌道を曲げて開口10aより取出しウェーハ7に浴びせる。このとき一部の減速されなかった電子は直進させ隔離室10の壁に吸収させ消滅させる。このことによって低エネルギーの電子のみ取出し、ウェーハ7に照射する。
Claim (excerpt):
注入室に収納される半導体基板面に対して所定の角度に対向する開口を有するとともに該注入室と仕切られる隔離室と、この隔離室に収納される熱陰極と、この熱陰極が発生する熱電子を引き出す引出し電極と、この引出し電極より引き出される前記熱電子の速度を減速する減速電極と、減速された前記熱電子を前記開口に向うように軌道を曲げる磁石を備えることを特徴とするエレクトロンシャワー装置。
IPC (3):
H01J 37/317
, C23C 14/48
, H01L 21/265
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開平3-194841
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特開平1-220350
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特開昭63-299041
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