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J-GLOBAL ID：200903005399029462

化粧料

Inventor： 杉野 豪俊 ,  レカ・ラジュ・ジュネジャ ,  青井 暢之
Applicant, Patent owner： 太陽化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992358214
Publication number (International publication number)：1994199627
Application date： Dec. 26, 1992
Publication date： Jul. 19, 1994
Summary：

【要約】【目的】優れた美肌効果と、保存安定性を合わせ持ち、透明な外観を示し、さらには生体適合性の高い可溶化型化粧料を提供する。【構成】スフィンゴミエリンとリゾホスファチジルコリンを組成比1:8〜2:1で含有する事を特徴とする化粧料。

Claim (excerpt)：

スフィンゴミエリンとリゾホスファチジルコリンを組成比1:8〜1:2の割合で含有することを特徴とする化粧料。

IPC (2)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/48

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭64-016708
  
• 特開平2-203928
  
• 特開平3-196833
  
• 特開昭62-095132
  
• 特開昭61-291514