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J-GLOBAL ID：200903005403840405

多層膜X線ミラーおよび多層膜X線光学系

Inventor： 黒田 研一 ,  板橋 聖一
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 谷 義一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992330516
Publication number (International publication number)：1994174897
Application date： Dec. 10, 1992
Publication date： Jun. 24, 1994
Summary：

【要約】【目的】 多層膜X線ミラーで目的とする波長のみを反射し、それ以外の波長の反射を抑圧すること。【構成】 基板1上に高密度層2としてW薄膜と低密度層3としてB4 C薄膜を周期長が2.5nm、周期数100、W相対膜厚比0.5となるように多層膜X線ミラーを構成する。高密度層表面の反射波4,5および裏面の反射波6が得られる。斜入射角10度でX線を入射すると基本波が反射され、2次高調波の反射が抑圧される。Wの相対膜厚比を0.33とすると3次高調波の反射が抑圧される。W相対膜厚比の異なる2枚の多層膜X線ミラーを平行に配置して多層膜X線光学系を作製する。

Claim (excerpt)：

材料組成の異なる2種以上の薄膜を所定の厚さで積層した積層単位を複数有する多層膜X線ミラーにおいて、前記2種以上の薄膜のうち密度の最も高い薄膜の膜厚を前記積層単位の厚さのおおよそ1/i(iは正の整数)にしたことを特徴とする多層膜X線ミラー。

IPC (3)：

G21K 1/06 ,  G02B 5/124 ,  G02B 5/28