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J-GLOBAL ID:200903005409151083

有機金属錯体を用いたガス吸着材

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三枝 英二 (外8名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999121183
Publication number (International publication number):2000309592
Application date: Apr. 28, 1999
Publication date: Nov. 07, 2000
Summary:
【要約】【課題】 安価であるとともに体積当たりのガス吸着能が高く、繰り返し特性の良好なガスの貯蔵技術を提供する。【解決手段】化学式(1)【化1】〔式中、Rおよびnは明細書に定義されたとおりである。〕で表されるカルボン酸から選択される少なくとも1種の化合物と、銅、ロジウム、クロム、モリブデン、パラジウム及びタングステンから選択される少なくとも1種の金属と、前記金属に2座配位可能な有機配位子を含むカルボン酸金属錯体。
Claim (excerpt):
化学式(1)【化1】〔式中、Rは水素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級ハロアルキル基、OH、NH2、CN、炭素数1〜4のモノ低級アルキルアミノ基、炭素数1〜4の低級アルコキシ基、ハロゲン原子、置換されていてもよいフェニル基を示す。nは1〜5の整数を示す。〕で表されるカルボン酸から選択される少なくとも1種の化合物と、銅、ロジウム、クロム、モリブデン、パラジウム及びタングステンから選択される少なくとも1種の金属と、前記金属に2座配位可能な有機配位子を含むカルボン酸金属錯体。
IPC (3):
C07F 1/08 ,  C07F 15/00 ,  F17C 11/00
FI (3):
C07F 1/08 B ,  C07F 15/00 B ,  F17C 11/00 A
F-Term (29):
3E072AA03 ,  3E072DA04 ,  3E072DA05 ,  3E072EA10 ,  4H048AA01 ,  4H048AA02 ,  4H048AA03 ,  4H048AB90 ,  4H048AB99 ,  4H048AC90 ,  4H048VA00 ,  4H048VA20 ,  4H048VA56 ,  4H048VB10 ,  4H050AA01 ,  4H050AA02 ,  4H050AA03 ,  4H050AA05 ,  4H050AB90 ,  4H050BB11 ,  4H050BB14 ,  4H050BB15 ,  4H050BB16 ,  4H050BB20 ,  4H050BB21 ,  4H050BB25 ,  4H050WB13 ,  4H050WB14 ,  4H050WB21
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent:
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