Pat
J-GLOBAL ID：200903005423205951

皮膚化粧料

Inventor：
坐古 恭子

About 坐古 恭子


Applicant, Patent owner：
花王株式会社

About 花王株式会社


Agent (1)： 有賀 三幸 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000045633
Publication number (International publication number)：2001233753
Application date： Feb. 23, 2000
Publication date： Aug. 28, 2001
Summary：
【要約】【解決手段】 (a)フトモモ科及びシソ科植物から選ばれる植物の抽出物;(b)リナロール、cis-3-ヘキセノール、エストラゴール、ウンデカベルトール、フェニルエチルアルコール、ローズオキサイド、ベンジルアセテート、セドリルアセテート、スチラリルアセテート、エチル2-メチルブチレート、アリルヘプタノエート、ジメチルベンジルカルビニルアセテート、cis-3-ヘキセニルアセテート、フェニルエチルイソブチレート、メチルベンゾエート、リラール、メチルヒドロキシシンナミックアルデヒド、ヘキシルシンナミックアルデヒド及びγ-ウンデカラクトンから選ばれる1種以上、並びに(c)炭素数10の脂肪族炭化水素及び炭素数10の脂肪族アルコールから選ばれる1種以上(但し、リナロールを除く)を含有する皮膚化粧料。【効果】 植物の抽出物由来の生薬様の刺激的な不快臭がマスキングされ、かつやさしい印象の香りを有する皮膚化粧料が得られる。
Claim (excerpt)：
次の成分(a)、(b)及び(c)、(a)フトモモ科及びシソ科植物から選ばれる植物の抽出物、(b)リナロール、cis-3-ヘキセノール、エストラゴール、ウンデカベルトール、フェニルエチルアルコール、ローズオキサイド、ベンジルアセテート、セドリルアセテート、スチラリルアセテート、エチル2-メチルブチレート、アリルヘプタノエート、ジメチルベンジルカルビニルアセテート、cis-3-ヘキセニルアセテート、フェニルエチルイソブチレート、メチルベンゾエート、リラール、メチルヒドロシンナミックアルデヒド、ヘキシルシンナミックアルデヒド及びγ-ウンデカラクトンから選ばれる化合物、(c)炭素数10の脂肪族炭化水素及び炭素数10の脂肪族アルコールから選ばれる化合物(但し、リナロールを除く)を含有する皮膚化粧料。
IPC (2)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00
FI (5)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/00 M ,  A61K 7/00 N
F-Term (37)：
4C083AA111 ,  4C083AA112 ,  4C083AA122 ,  4C083AB242 ,  4C083AC061 ,  4C083AC062 ,  4C083AC072 ,  4C083AC091 ,  4C083AC092 ,  4C083AC101 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC171 ,  4C083AC211 ,  4C083AC212 ,  4C083AC242 ,  4C083AC302 ,  4C083AC341 ,  4C083AC342 ,  4C083AC351 ,  4C083AC352 ,  4C083AC442 ,  4C083AC841 ,  4C083AC842 ,  4C083AC902 ,  4C083AD042 ,  4C083AD112 ,  4C083AD532 ,  4C083CC02 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083DD31 ,  4C083EE03 ,  4C083EE12 ,  4C083EE13
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
Show all
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 周知・慣用技術集(香料)第1部 香料一般, 1999, pp.230-250
  • 化粧品種別配合成分規格, 1997, p.588,1096

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM