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J-GLOBAL ID：200903005433822371
処理装置におけるポンプ機構
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
千葉 剛宏 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992123655
Publication number (International publication number)：1993320743
Application date： May. 15, 1992
Publication date： Dec. 03, 1993
Summary：
【要約】【目的】専用の加熱手段を用いることなく簡単な構成で処理液の凝固を確実に阻止することができ、この処理液を円滑に流動可能にする。【構成】ポット12内に充填されている塩浴液16中に端部18aが浸漬される外側管体18と、前記塩浴液16を前記ポット12から汲み上げるための供給管体20と、他端24bが圧縮空気供給源22に接続されて一端24aから導出される圧縮空気を介して前記供給管体20内に塩浴液16を送り込むための空気管体24と、他端26bが圧縮空気供給源22に接続されて一端26aから導出される圧縮空気を介して前記供給管体20内の塩浴液16を所定の温度に保温するための保温管体26とを備える。
Claim (excerpt)：
処理槽に充填されている処理液中に端部が浸漬される外側管体と、前記外側管体内に配設され、該外側管体の端面を貫通してその開口端部が前記処理液中に開放される供給管体と、一端が前記供給管体の開口端部に向かうとともに、他端が圧縮空気供給源に接続され、前記一端から導出される圧縮空気を介して前記供給管体内に処理液を送り込むための空気管体と、一端が前記外側管体内の端面近傍で終端するとともに、他端が圧縮空気供給源に接続され、前記一端から導出される圧縮空気を介して前記供給管体内の処理液を所定の温度に保温するための保温管体と、を備えることを特徴とする処理装置におけるポンプ機構。
IPC (3)：
C21D 1/18
, C21D 1/46
, F04F 5/24
