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J-GLOBAL ID：200903005450813564

パターン位置測定装置

Inventor：
野村 恵一郎

About 野村 恵一郎


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992052415
Publication number (International publication number)：1993256621
Application date： Mar. 11, 1992
Publication date： Oct. 05, 1993
Summary：
【要約】【目的】 ゴミ等の異物付着による試料の異常な姿勢状態に起因した測定誤差を排除可能なパターン位置測定装置を提供する。【構成】 表面に所定のパターンが形成された試料を載置し、略水平面を移動可能なステージ5と;前記試料表面の複数の位置で、前記試料表面の前記水平面からの高さを検出する高さ検出手段11と;前記高さ検出手段により検出された高さと予め設定されている基準の高さとの差が、所定の許容範囲内か否かを判断する比較手段12とを具備する。
Claim (excerpt)：
表面に所定のパターンが形成された試料を載置し、略水平面を移動可能なステージと、前記試料表面の複数の位置で、前記試料表面の前記水平面からの高さを検出する高さ検出手段と、前記高さ検出手段により検出された高さと予め設定されている基準の高さとの差が、所定の許容範囲内か否かを判断する比較手段と、を具備したことを特徴とするパターン位置測定装置。
IPC (4)：
G01B 11/24 ,  G01B 11/00 ,  G06F 15/62 405 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特開平4-013908
  • 特開平1-277192
  • 特開昭57-087582
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