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J-GLOBAL ID：200903005485727458

修飾リパーゼ及びこれを含有した化粧料

Inventor： 増永 卓司 ,  宝田 健士 ,  亀山 久美 ,  足立 佳津良
Applicant, Patent owner： 株式会社コーセー
Agent (1)： 舟橋 榮子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992119924
Publication number (International publication number)：1993284967
Application date： Apr. 15, 1992
Publication date： Nov. 02, 1993
Summary：

【要約】【構成】 式(1)で示されるアルケニルエーテルと無水マレイン酸と他の単量体とのモル比が、5〜60:20〜90:0〜30である共重合体で修飾された修飾リパーゼ 【化1】(Zは2〜8個の水酸基を持つ化合物の残基、AOは炭素数2〜18のオキシアルキレン基の1種または2種以上の混合物で、2種以上のときはブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよく、R1 は炭素数2〜5のアルケニル基、R2 は炭素数1〜24の炭化水素基またはアシル基、aとbとcはオキシアルキレン基の平均付加モル数でそれぞれ0〜600 、mは1〜7の整数、nは0〜6の整数、m+n=1〜7、n/(1+m+n)≦1/2、かつa+bm+cn=1〜1000である。) 、およびこの修飾リパーゼを含有したことを特徴とする化粧料。【効果】 化粧料中でもリパーゼの活性を永く持続することができ、且つ皮膚刺激性が低く、化粧効果として、使用後の肌のしっとり感やなめらかさなどの使用感に優れている。

Claim (excerpt)：

式(1)で示されるアルケニルエーテルと無水マレイン酸と他の単量体とのモル比が、5〜60:20〜90:0〜30である共重合体で修飾された修飾リパーゼ。【化1】(Zは2〜8個の水酸基を持つ化合物の残基、AOは炭素数2〜18のオキシアルキレン基の1種または2種以上の混合物で、2種以上のときはブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよく、R1 は炭素数2〜5のアルケニル基、R2 は炭素数1〜24の炭化水素基またはアシル基、aとbとcはオキシアルキレン基の平均付加モル数でそれぞれ0〜600 、mは1〜7の整数、nは0〜6の整数、m+n=1〜7、n/(1+m+n)≦1/2、かつa+bm+cn=1〜1000である。)

IPC (2)：

C12N 9/20 ,  A61K 7/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平1-153088
  
• 特開昭63-130514
  
• 特開昭62-153209