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J-GLOBAL ID：200903005512682623

エキシマレーザ加工装置

Inventor： 佐々木 弘治 ,  川久保 幸雄
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995236437
Publication number (International publication number)：1997080368
Application date： Sep. 14, 1995
Publication date： Mar. 28, 1997
Summary：

【要約】【構成】格子状の反射鏡2を用いてレーザビーム1を帯状ビーム4に分割して大面積TFT-LCD基板5上のTFT部に一度に照射する。【効果】レーザエネルギの利用効率を大幅に向上させる。

Claim (excerpt)：

薄膜半導体素子を用いた液晶ディスプレー基板にレーザ光を照射してアニール加工するエキシマレーザ加工装置において、格子状の反射鏡をレーザ光軸に対して入射角度が零度以外になるように、配置したことを特徴とするエキシマレーザ加工装置。

IPC (6)：

G02F 1/13 101 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/20 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/336 ,  H01S 3/00

FI (5)：

G02F 1/13 101 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/20 ,  H01S 3/00 B ,  H01L 29/78 627 G