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J-GLOBAL ID:200903005536590797
半導体製造装置およびその駆動方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
伊東 哲也 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994317753
Publication number (International publication number):1996153673
Application date: Nov. 29, 1994
Publication date: Jun. 11, 1996
Summary:
【要約】【目的】 半導体製造装置における各ユニットの駆動をより簡便に行えるようにする。【構成】 コンソール部のディスプレイ上に、ユニットの位置をグラフィック表示および座標値により表示するとともに、ユニットの位置を複数記憶し、記憶された複数位置から1つを選択するための入力を受け入れ、この選択された位置にユニットを駆動させる。また、ユニット位置のグラフィック表示および座標値表示を駆動状態で行う場合は、実際のユニットの駆動に時間的に追従させて行う。表示および記憶するユニット位置は、その表示または記憶する時点でのユニットの現在位置、またはコンソール部において入力される任意の値である。また、ディスプレイ上に表示されたユニットの現在位置を、タッチパネルもしくはマウス等のポインティングデバイスにより選択し、その選択位置を移動させることにより、その移動に同期させてユニットを駆動する。
Claim (excerpt):
装置を構成するユニットと、その動作を制御する制御手段と、この制御手段との間で情報の授受を行うためのディスプレイを有するコンソール部とを備えた半導体製造装置において、コンソール部は、前記ディスプレイ上に、前記ユニットの位置をグラフィック表示および座標値により表示するものであることを特徴とする半導体製造装置。
IPC (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特開平4-157748
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特開平4-064215
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特開平2-230711
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特開平4-302450
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プロセスフロー作成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-058248
Applicant:株式会社東芝
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