共役材料の薄膜の構造的、電気的、光学的および光電気的特性の異方性をマイクロメートルスケール及びナノメートルスケールで生成および制御する製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長門侃二
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003534171
Publication number (International publication number)：2005504663
Application date： Oct. 07, 2002
Publication date： Feb. 17, 2005
Summary：

【課題】二重の共役結合を備えた有機材料からなる薄膜における構造的異方性、組織および配向ならびに薄膜の機械的、電気的、光学的、光エレクトロニックス的、電荷運搬およびエネルギ運搬の特性の異方性を改変、改良および生成する新規なリソグラフィ方法。【解決手段】本方法は、型の表面との密接な接触により共役薄膜に直接的に成形を行う。型と直接に接触する膜部分は、特性上は局在的な変換を受け、その寸法は型に設けられた構造の寸法に依存する。成形は、静的条件および動的条件の双方で実行可能である。本プロセスの有効性は、型の特性(材料、形状、粘着性および表面張力)と係合および接触が生じる途中での成形プロセス(圧力Pと温度Tとの組み合わせ、成形持続時間)とに依存し、また、動的プロセスの場合には試料に対する型の速度に依存する。数十マイクロメートル(10-6m)乃至数十ナノメートル(10-9m)の空間スケールに対して、記載プロセスの効果が示された。【選択図】図1a

Claim (excerpt)：

共役材料により構成される薄膜のテンソル特性を改変するプロセスであって、前記膜を型に接触させて配置し、前記型に成形圧力を印加する工程を備えることを特徴とするプロセス。

IPC (4)：

B29C59/02 , H01L29/786 , H01L49/02 , H01L51/00

FI (4)：

B29C59/02 Z , H01L49/02 , H01L29/78 618B , H01L29/28

F-Term (14)：

4F209AJ02 , 4F209AJ03 , 4F209AR02 , 4F209AR06 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PN06 , 4F209PN13 , 5F110AA01 , 5F110AA05 , 5F110BB03 , 5F110GG05 , 5F110GG41 , 5F110GG58

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

光学異方体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-310412 Applicant：大日本インキ化学工業株式会社
特開平1-317725
液晶表示素子、その製造方法およびそれに用いる製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-227067 Applicant：アルプス電気株式会社

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