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J-GLOBAL ID：200903005596905150

水溶性フォトレジスト

Inventor： 名取 恵子 ,  澤田 豊明 ,  田村 章 ,  田中 聡
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993135855
Publication number (International publication number)：1994348020
Application date： Jun. 07, 1993
Publication date： Dec. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】保存安定性の良い水溶性フォトレジストを提供すること。【構成】ポリビニルアルコール-重クロム酸塩系の水溶性フォトレジストのpHを5.5〜8.0の範囲に調整する。【効果】暗反応が抑えられるため保存安定性が向上し、レジスト溶液およびレジストを塗布した基板を保存できる期間が長くなる。

Claim (excerpt)：

ポリビニルアルコール-重クロム酸塩系の水溶性フォトレジストにおいて、レジストのpHを5.5〜8.0の範囲に調整することを特徴とする水溶性フォトレジスト。

IPC (4)：

G03F 7/04 ,  G03F 1/00 ,  G03F 7/038 ,  H01J 9/14