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J-GLOBAL ID：200903005642359611
ビスマス系膜形成材料、及びビスマス系膜の成膜方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
宇高 克己
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998138104
Publication number (International publication number)：1999199233
Application date： May. 20, 1998
Publication date： Jul. 27, 1999
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 安定で、取扱い易く、そして気相化が容易で、かつ、分解温度が高くなく、成膜効率が高いビスマス系膜形成材料及び成膜方法の提供。【解決手段】 トリアルキルビスマスとトルエン等トリアルキルビスマスに対して不活性な溶媒とを含むビスマス系膜形成材料及びこれを用いた成膜方法。トリアルキルビスマスを溶媒で希釈することにより爆発などの危険性を小さくすることができる。
Claim (excerpt)：
トリアルキルビスマスと溶媒とを含むことを特徴とするビスマス系膜形成材料。
IPC (7)：
C01G 29/00 ZAA
, C01G 1/00
, C03C 17/245
, C23C 16/18
, C23C 16/40
, H01B 3/00
, H01L 39/24
C01G 29/00 ZAA
, C01G 1/00 S
, C03C 17/245 Z
, C23C 16/18
, C23C 16/40
, H01B 3/00 F
, H01L 39/24 B
