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J-GLOBAL ID：200903005680319577

洗浄剤組成物

Inventor： 阪谷 武信 ,  岡野 知道
Applicant, Patent owner： ライオン株式会社
Agent (1)： 池浦 敏明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993172406
Publication number (International publication number)：1995003287
Application date： Jun. 18, 1993
Publication date： Jan. 06, 1995
Summary：

【要約】【目的】 耐硬水性、分散性に優れ、再汚染防止効果を有し、しかも皮膚刺激性の低い洗浄剤組成物を提供する。【構成】 下記一般式(1)(化1)で表わされるスルホコハク酸誘導体を含有することを特徴とする衣類用、皮膚用等に適した洗浄剤組成物。【化1】{式中、R1、R2:炭素数8〜22のアルキル基又はアルケニル基A :炭素数2のアルキレン基M1、M2:水素原子、アルカリ金属、一価に相当するアルカリ土類金属、置換もしくは非置換のアンモニウム基Z :-O(X)O-基、又は-NR3(Y)NR3-基(但しX,Yは、それぞれ多価アルコール残基、多価アミン残基を、R3は水素又は低級アルキル基を表わす)}

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)(化1)で表わされるスルホコハク酸誘導体を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。【化1】{式中、R1、R2:炭素数8〜22のアルキル基又はアルケニル基A :炭素数2のアルキレン基M1、M2:水素原子、アルカリ金属、一価に相当するアルカリ土類金属、置換もしくは非置換のアンモニウム基Z :-O(X)O-基、又は-NR3(Y)NR3-基(但しX,Yは、それぞれ多価アルコール残基、多価アミン残基を、R3は水素又は低級アルキル基を表わす)}

IPC (5)：

C11D 1/28 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  B23K 1/00 ,  C23G 5/02