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J-GLOBAL ID：200903005692560830
光デイスク及び光デイスクの製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
田辺 恵基
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994173233
Publication number (International publication number)：1996022638
Application date： Jun. 30, 1994
Publication date： Jan. 23, 1996
Summary：
【要約】【目的】本発明は、大きな信号記録容量を有し、特性の良い再生信号を得ることのできる光デイスク及び光デイスクの製造方法の実現を目的とする。【構成】基板の一面側及び他面側にそれぞれ第1及び第2の信号に応じた凹凸パターンを形成し、当該基板の一面及び他面にそれぞれ第1及び第2の反射膜層とを形成するようにしたことにより、従来の光デイスクに比べて2倍の容量をもつ光デイスクを形成することができると共に、ノイズの少ない良好な信号特性を有する再生信号を得ることができ、かくして大きな信号記録容量を有し、かつ良好な信号特性を有する再生信号を得ることのできる光デイスク及び光デイスクの製造方法を実現できる。
Claim (excerpt)：
一面及び他面に、それぞれ第1及び第2の記録信号に応じた凹凸パターンが形成された基板と、上記基板の上記一面上及び上記他面上にそれぞれ形成された第1及び第2の反射膜層とを具えることを特徴とする光デイスク。
IPC (3)：
G11B 7/24 521
, G11B 7/24 538
, G11B 7/26 531
Cited by examiner (5)
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