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J-GLOBAL ID：200903005744494823

水素シルセスキオキサン樹脂から無割れ被膜の製造法

Inventor： ジェフリー ニコラス ブレマー ,  キュハ チュン ,  チャンダン クマー サハ ,  ミッチェル ジョン スポルディング
Applicant, Patent owner： ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
Agent (1)： ウオーレン・ジー・シミオール
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998156532
Publication number (International publication number)：1999016898
Application date： Jun. 05, 1998
Publication date： Jan. 22, 1999
Summary：

【要約】【課題】 水素シルセスキオキサン樹脂組成物から割れのない不溶性で1.25μmの厚さを有する被膜の製造法を提供することである。【解決手段】 この方法は、基材上に無充てん剤の水素シルセスキオキサン樹脂組成物を塗布し、その後その樹脂を500°C以下の温度で制御された時間加熱して、割れの無い1.25μm以上の厚さを有する被膜を形成する工程から成る。それらの樹脂は不活性又は酸素含有環境で硬化する。

Claim (excerpt)：

水素シルセスキオキサン樹脂から成る無充てん剤組成物を基材上に塗布して少なくとも1.25μm厚さの膜を形成し;前記膜を不活性又は酸素含有環境下、150°C〜500°Cの温度で十分な時間加熱して、割れの無い少なくとも1.25μm厚さの不溶性被膜を製造する工程から成ることを特徴とする被膜の製造法。

IPC (3)：

H01L 21/312 ,  B05D 3/02 ,  B05D 7/24 302

FI (3)：

H01L 21/312 C ,  B05D 3/02 Z ,  B05D 7/24 302 Y